一种防止感光鼓污染的硒鼓，涉及一种激光打印机，尤其涉及一种预防清洁刮刀翻转的硒鼓。一般打印机的硒鼓由供粉仓、废粉仓、感光鼓、充电辊、磁辊或显影辊、出粉刮刀和清洁刮刀等主要零件组成，其组?#26174;?#19968;起形成一个硒鼓，安装在打印机的内部，用于显影成像。其中，出粉刀、磁辊或显影辊装在供粉仓塑胶件...

本发明涉及一种驱动头分离机构及碳粉盒。在现有技术中，碳粉盒可拆卸地的安装在激光打印机内。打印机带有可以旋转驱动头。碳粉盒结构包含有接收驱动力的驱动头及相关驱动组件、磁辊、碳粉、出粉刀以及可装配装载上述零件的壳体。碳粉盒的驱动头设置在碳粉盒的一端，通过该驱动头与打印机中的驱动?#24223;?#20114;啮合，进而...

本发明实施例涉及打印，尤其涉及一种双色图像生成方法、装置、设备及存储介质。?#22771;?#21452;色打印机采用的打印方式一般包括两种，一种是使用两个粉盒(黑色粉盒和专色粉盒)进行打印，针对这种情况，容易出现黑色粉盒中的碳粉快用尽，但专色粉盒中的碳粉反而有很多剩余，导致碳粉资源的使用不合理；另一种是使...

本发明涉及图像形成装置。图像的最大浓度和灰度特性根据图像形成装置的安装环境的变化及其部件的磨损而变化。因此，图像形成装置执行校准，并由此使图像的最大浓度保持在目标浓度并且使灰度特性保持在目标水平。美国专利No.6418281提出了使得在片材上形成和读取灰度?#21450;?#24182;且将读取的灰度?#21450;?#30340;信息反馈...

本发明涉及一种退回装置、容纳装置和图像形成设备。已知有一种功能(退回功能)，当将容纳单元容纳到主体设备内?#20445;?#35813;功能使得该容纳单元在该容纳单元通过用户退回到主体设备中的预定位置之后无需用户向该容纳单元施加力就能够容纳到主体设备内。例如，日本未审专利申请公报No.2015-214403和日本未...

本发明涉及一种带正电性调色剂及其制造方法。为了提高调色剂的流动性和带电特性，提出了在调色剂母粒的表面上附着外部添加剂的方法。例如，已知一种外部添加剂，含有若干个具有核壳结构的树脂微粒。树脂微粒各自的壳层含有缩合物(树脂)，该缩合物是具有2个以上氨基的化合物与甲醛的缩合物。发明内容?#22771;埃?#24050;知...

本发明涉及办公用品，尤其涉及一种打印机墨粉。墨粉（又称碳粉）的主要成分不是碳，而大多数是由树脂和炭黑、电荷剂、磁粉等组成。?#22771;安?#29992;物理粉碎法生产的墨粉容易出现打印?#20998;?#24433;和底灰，不能满足用户需求。化学法生产的墨粉虽然质量好，打印品无重影和底灰，但因其价格昂贵，导致办公成本较高。发明内...

本发明属于光学微纳加工，具体涉及一种表面等离子体光刻中小分子光刻胶的干法显影方法。近年来，表面等离子体光刻的出现引起了学术界的极大兴趣，当前大量研究结果表明该技术具有高分辨率、高产率、低成本的优势，有很大的潜力成为解决纳米图像光刻技术难题的重要手段之一。表面等离子光刻技术在推向实际...

本发明涉及一种显影液辅助剂组合物及其配制方法，更确切是一种PCB印刷行业显影液辅助剂及其配制方法。印刷线路板(简称PCB)，是电子元器件的支撑体和载体，其应用?#27573;?#38750;常广泛。PCB按产业链上下游来分类，可以分为原材料-覆铜板-印刷电路板-电子产品应用。印刷电路板中包括内层线路形成的步骤，内层...

本发明属于信息光学，涉及一种全息干涉光刻?#20302;場?#22312;拍摄大尺寸的全息光栅?#20445;?#30001;于拍摄光强较弱，需要长时间的曝光。但是外界的振动，空气的流动，温度的波动等因素都会?#21038;?#20809;和参考光的相对相位发生变化，它们形成的干涉条纹会发生随机漂移，从而使记录条纹的对比度下降。?#22771;?#30340;全息光刻?#20302;?#22343;无法解决在...

本发明涉及阵列曝光领域，尤其涉及一种扫描光源的倾斜拼接方法，采用光源模块进行拼接，适合于需要大面积UVLED阵列曝光的领域。印刷线路板的集成度及质量主要取决于紫外曝光机的性能，近年来LED因其节能、环保、寿命长、发热少等优点逐渐在各个领域取代了传统光源，相比于汞灯光源还具有即开即关等优势，...

本发明涉及一种基于棱镜分光的SP激发照明超分辨光刻装置，属于超分辨光刻装置的改进与创新。缩短照明光波长是传统光刻装置提高分辨率的一种有效途径，但是随着波长的缩短，光刻的成本?#26412;?#25552;高，光刻的效率也?#26412;?#38477;低，?#29616;?#21046;约着光刻分辨率的提高，因此，要想进一步提高光刻的分辨?#21097;?#38656;要对光刻装置进行改进和...

本发明属于超分辨光刻装置的，具体涉及一种基于棱台分光的超分辨光刻装置。随着IC产业的高速发展，电子产品集成电路小型化以及存储密度越来越高，迫切要求提高光刻工艺。光刻工艺的分辨率和曝光效率决定了生产集成电路芯片的分辨率和生产效率。由瑞利判据可知，光刻工艺的分辨率kλ/NA，其中k为工...

本申请属于微纳结构，特别是涉及一种激光干涉光刻?#20302;場?#37329;属钛合金因其优良的生物相容性、生物惰性、弹性模量与人体骨模量接近等优点被广泛应用于口腔种植和?#24378;?#39046;域。钛合金植体表面形态是影响骨整合的重要因素之一，为促进骨整合，人们采用多种物理化学方法对钛合金植体表面进行改性。多光束激光干涉光...

本发明属于精密仪器及机械，特别涉及一种用于高速曝光的质量?#33014;?#26041;法和装置。近年来，随着先进芯片制造业逐渐朝向功能集成化和体积微小化发展，气体静压直线运动基准以其高速度和高精度等显著优点而成为尖端光刻机中的关键部件之一；光刻机曝光?#20302;?#20013;光阑片的高速、高加速以及高运动精度需求，对气体静压...

本发明涉及材料加工制作，尤其涉及一种用于二维材料定点转移和对准光刻的一体化?#20302;場?#30707;墨烯和类石墨烯二维材料，如过渡金属硫族化合物，黑磷和六方氮化硼等，由于其新颖的电学、热学、磁学、光学和(或)机械性能，近年来引起了科学研究的热潮。同?#20445;?#29289;理学家、化学家和工程师?#19988;?#22312;不断地探索将二维材...

本公开涉及半导体领域，具体地，涉及极紫外(EUV)光刻中的湿度控制。半导体集成电路(IC)产业经历着指数级的增长。IC材料和设计的技术进步已经产生了数代IC，其中每一代具有比上一代更小且更复杂的电路。在IC进化的过程中，功能密度(即，每芯片面积中的互连器件的数量)通常在增大，而几何尺寸(即...

本发明涉及一种紫外曝光机，尤其涉及一种基于Micro-LED无掩模扫描式紫外曝光机。在微电?#21360;?#20809;学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩模式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩模的曝光形式。而?#22771;?#29616;?#24418;?#25513;模曝光机采用的是光源、光源准直?#20302;場MD芯片以及投影镜头的复杂结...

本发明涉及一种紫外曝光机，尤其涉及一种基于Micro-LED无掩模投影固定式紫外曝光机。在微电?#21360;?#20809;学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩模式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩模的曝光形式。而?#22771;?#29616;?#24418;?#25513;模曝光机采用的是光源、光源准直?#20302;場MD芯片以及投影镜头的复...

本发明涉及一种紫外曝光机，尤其涉及一种基于Micro-LED无掩模投影扫描式紫外曝光机。在微电?#21360;?#20809;学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩模式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩模的曝光形式。而?#22771;?#29616;?#24418;?#25513;模曝光机采用的是光源、光源准直?#20302;場MD芯片以及投影镜头的复...